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InTech -2000是一種高速、、穩定的電鍍系統，專為在廣泛的電流密度下快速沉積純銦而設計。 InTech -2000具有純銦無鉛電鍍工藝的優勢，提供超軟鍍層，產生均勻的晶粒尺寸，這是減少晶須生長趨勢的絕佳選擇。該工藝在極寬的陰極電流密度范圍內產生均勻的啞光白色沉積 物。所得到的沉積物具有優異的回流性能，對壓濾效果很好。
Features 特性 |
Operates over a wide current density range
在寬電流密度范圍內工作 |
Analyzable additives 可分析的添加劑 |
Simplified effluent treatment 簡化污水 |
High efficiency 效率高 |
Benefits 優點 |
Uniform plating thickness regardless of part geometry 鍍層厚度均勻，不考慮零件幾何形狀 |
Easy to maintain and control 易于維護和控制 |
Environmentally friendly process 環保工藝 |
Consistent plating rate throughout the life of the bath 在鍍液的整個使用壽命中保持一致的鍍速 |
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